@article{2001-tandler,
	Abstract = {Im Rahmen dieser Arbeit wurde ein neuartiges Verfahren zur Erzeugung von Lichtmasken für die Atomlithographie erprobt. Statt der bisher üblicherweise verwende-
ten Spiegelanordnung wurde hier die Lichtmaske durch ein Hologramm erzeugt, das einen Auslesestrahl in mehrere Signalstrahlen abbeugt. Mit diesem Experiment wurden erfolgreich Strukturen in eine Goldoberfläche übertragen, die mit simulierten Ergebnissen weitestgehend übereinstimmen. Diese Strukturen sind periodisch angeordnete, parallele Linien mit einem Abstand von 426 nm. Die Simulation der verwendeten Lichtmaske sagt für eine reine Dreistrahlgeometrie voraus, daß diese Linien jeweils im Abstand von 24,4 µm unterbrochen werden und versetzt weiterlaufen. Diese Versetzungen können beobachtet werden, haben allerdings keinen konstanten Abstand. Dieses Verhalten kann aber auf einen vierten Strahl, der die erwartete Lichtmaske verändert, zurÄuckgeführt werden. Insgesamt läßt sich daher sagen, daß damit der Nachweis erbracht wurde, daß sich Hologramme zur Erzeugung von Lichtmasken eignen, mit denen das Atomlithographieverfahren durchgeführt werden kann.},
	Author = {Tandler, S.},
	Journal = {},
	Pages = {},
	Title = {{Atomlithographie mit einer holographisch erzeugten Lichtmaske}},
	Volume = {},
	Year = {2001}
}