@article{1997-haubrich-mlynek-phys-j-v53-p523, Abstract = {

Grofitechnisch angewandte optische Lithographieverfahrenstofien bei Auflosungen unter 100 nm auf eine prinzipielle Grenze. Die Lithographie mit neutralen Atomstrahlen bietet dazu insbesondere beim parallelen Schreiben periodischer Strukturen eine interessante, noch junge Alternative. Indem man die Wechselwirkung der Atome mit Lichtmasken ausnutzt, gelingt es, grofiflachig periodische Linienmuster und verschiedene zweidimensional periodische Strukturen mit einer Auflosung unter 100 nm zu erzeugen. Dabei werden Atome entweder direkt auf einem Substrat deponiert oder zur Modifikation organischer Resists genutzt. Der folgende Beitrag gibt einen herblick iiber den Stand der Lithographie mit Atomstrahlen.

}, Author = {Haubrich, D. AND Meschede, D. AND Pfau, T. AND Mlynek, J.}, Journal = { Phys. J.}, Pages = {523}, Title = {{Atomlithographie}}, Volume = {53}, Year = {1997} }